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    レーザー平面瞬間加熱裝置

    當社のレーザー平面瞬間加熱裝置をご紹介します。
    下記の製品カテゴリから各製品の基本情報およびPDFカタログ、関連情報などがご覧いただけます。

    ミニマルレーザ水素アニール裝置

    <シリコン微細構(gòu)造の原子レベルでの平滑化と丸め制御により、様々な分野?用途におけるMEMSデバイスの高性能?高信頼性を?qū)g現(xiàn)!>
    東北大學(xué) 金森義明教授発明のAtomic-Antialiasing Annealing(AAA)技術(shù)を用いた水素雰囲気アニールによる立體構(gòu)造の平滑化と丸め制御新技術(shù)を、H30~R2年度サポイン事業(yè)により東北大?産総研?ミニマルファブ推進機構(gòu)との共同開発で製品化しました。

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    レーザー平面瞬間加熱裝置

    ExLASER®(エックス?レーザー)

    ExLASER® は多機能型レーザー平面瞬間加熱裝置です。

    ExLASER Lite®(エックス?レーザー ライト)

    レーザー平面加熱裝置「エックス?レーザー」にコンパクト設(shè)計?小面積加熱を?qū)g現(xiàn)した「ライト」が新登場!

    卓上型 ExLASER®(エックス?レーザー)

    世界最先端のヒーティングシステム「レーザー平面瞬間加熱裝置ExLASER®(エックス?レーザー)に、卓上型タイプが誕生。 コンパクト設(shè)計により、研究?試験等、様々なシーンで利用できます。

    ExLASER®(エックス?レーザー)シリーズ ワークテスト承ります!

    ExLASER® は多機能型レーザー平面瞬間加熱裝置です。

    ミニマルレーザ水素アニール裝置

    <シリコン微細構(gòu)造の原子レベルでの平滑化と丸め制御により、様々な分野?用途におけるMEMSデバイスの高性能?高信頼性を?qū)g現(xiàn)!>
    東北大學(xué) 金森義明教授発明のAtomic-Antialiasing Annealing(AAA)技術(shù)を用いた水素雰囲気アニールによる立體構(gòu)造の平滑化と丸め制御新技術(shù)を、H30~R2年度サポイン事業(yè)により東北大?産総研?ミニマルファブ推進機構(gòu)との共同開発で製品化しました。

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